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紅外光學(xué)溫度計是一種測量光并通過校準以指示溫度的設(shè)備。紅外光學(xué)溫度計檢測來自熱物體的輻射通量，并利用普朗克黑體輻射方程算法來計算物體的表面溫度。所用的算法是基于普朗克黑體輻射方程。
紅外光學(xué)溫度計通過測量物體輻射的紅外能量來計算物體的表面溫度。半導(dǎo)體行業(yè)的紅外溫度計主要應(yīng)用于晶體生長階段，分為Si探測器、銦鎵砷探測器以及熱電堆探測器三種。從測溫原理上分為比色和單色，從光通形式分為透鏡型及光導(dǎo)型。
和其光電HQ-RTS系列紅外溫度計可應(yīng)用于MOCVD、氧化擴散爐、PVD、CVD、ALD等半導(dǎo)體設(shè)備，具有高精準度、高重復(fù)性、高可靠性、可定制、技術(shù)支持快速響應(yīng)等諸多優(yōu)勢。

HQ-RTS-P 系列高精度紅外測溫儀具有很高的信噪比。能夠以及高精度測量較低的溫度來控制工藝過程。
HQ-RTS-P系列采用藍寶石光棒（即“光管”）作為鏡頭收集來自目標的紅外輻射，光管鏡頭的優(yōu)點是可提供較低的溫度測量值，并易于集成到通常用于高級材料沉積（生長）和刻蝕（去除）工藝的真空反應(yīng)設(shè)備。